- 立山マシン株式会社
［プラズマ応用装置］
プラズマ微細加工（プラズマエッチング）装置 TEP-Xd
概略
Overview
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TEP-01xのコンセプトをそのままに、デスクトップサイズを実現した低価格モデル
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研究室への導入機やサブマシンとして最適なプラズマ微細加工装置
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機械加工における卓上ボール盤・卓上旋盤の感覚で使えます
特長
Features
エッチング加工例
Processing Example
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チタニウム
ライン：30μm スペース：30μm 高さ：8μm
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石英
ライン：50μm 深さ：12μm
仕様
Specification
標準仕様
| プラズマ生成方式 | マグネトロン型 （磁場支援型 容量結合方式） |
|---|---|
| チャンバ内寸 | φ123mm×H75mm （上部蓋：石英製） |
| 処理可能基板サイズ | 最大φ50mm（2インチ） |
| ステージ冷却 | 強制空冷方式 |
| メインバルブ | ターボ分子ポンプ（50L/sec） |
| 高周波電源 | 13.56MHz / Max.100W（マニュアルマッチング方式） |
| プロセスガス導入制御 | 精密ニードルバルブ付フロート式流量計 標準 2ライン （1ライン追加可） |
| 真空計 | ピラニ真空計、キャパシタンスマノメータ |
| 運転方式 | 手動操作 |
| 外形寸法 | 560W×465D×620H (ハンドル等の突起部を除く) |
| 重量 | 約60kg |
| オプション | マスフローコントローラ セルフバイアスモニター ステージ冷却方式変更（冷媒循環） 補助排気ポンプ など |
所要用力
| 供給電源 | AC 110V ±10% 1φ 6.5A D種接地 |
|---|---|
| エア | 供給圧力 0.3MPa以上 |
| ガス | プロセスガス／パージガス供給圧力 0.1MPa以上 |
| 排気ダクト | 補助排気ポンプ用 |