- 立山マシン株式会社
［真空応用装置］
真空蒸着装置
概略
Overview
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抵抗加熱式高真空蒸着装置
特長
Features
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ターボ分子ポンプ搭載によるクリーンな高真空排気が可能（到達圧力： 1×10e-4Pa以下）
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3点切替式の蒸発源による多層蒸着が可能
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真空室はガラスベルジャ／SUSチャンバを選択可
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SUSチャンバは作業性の高いハッチ式全面扉を採用
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基板加熱・基板回転・EBガンなど、用途に合わせて多彩な機構をカスタマイズ可能
用途
Purpose
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各種金属薄膜の蒸着成膜