• 研究開発向けプラズマ微細加工（反応性イオンエッチング：RIE）装置

• 加工対象を従来加工困難であった機能性材料（非半導体材料）に特化した深掘りエッチング装置
• デバイス研究開発・試作加工から小規模生産まで対応可能な「R&D向けスタンダードタイプ　TEP-01x」とデスクトップサイズを実現した低価格モデル「R&D向け卓上型タイプ　TEP-Xd」をラインナップ

• 真空仕様のミニマルファブ用ウェハ搬送（ロードロック）装置

• 外気・微粒子から完全に遮断された状態で搬送容器からウェハを取出し、真空装置内にウェハを搬入出することが可能
• w267.5×d114×h378(mm)の空間に前室、ウェハ搬送ロボット、真空ポンプ、真空ゲージ、コントローラすべてを内蔵したコンパクト設計

ミニマルファブ
φ12.5mmウェハ1個を生産単位として極小規模で半導体製造工場を形成し、少量の半導体チップ・MEMSなどのマイクロデバイスを低コストかつ短期間で製造することを目的とした、革新的な多品種少量半導体製造システム

• 研究開発向け多価イオンビーム生成装置

• ミラー電磁石と永久磁石の組合せによるコンパクトなECRイオン源
• 磁場を用いた荷電粒子の高効率閉じ込めによる多価イオン生成が可能
• 複数の異なる周波数帯（2.45GHz／4～6GHz）のマイクロ波を重畳し、低圧域で高密度プラズマ生成が可能
• 多価イオンビームの生成

• イオンビームを用いた材料分析、微細加工
• 金属－炭素ハイブリッド材料（金属内包フラーレン）の研究開発

• 抵抗加熱式高真空蒸着装置

• ターボ分子ポンプ搭載によるクリーンな高真空排気が可能（到達圧力： 1×10e-4Pa以下）
• 3点切替式の蒸発源による多層蒸着が可能
• 真空室はガラスベルジャ／SUSチャンバを選択可
• SUSチャンバは作業性の高いハッチ式全面扉を採用
• 基板加熱・基板回転・EBガンなど、用途に合わせて多彩な機構をカスタマイズ可能

• 各種金属薄膜の蒸着成膜

• プリント基板向けプラズマ表面改質装置

• 多相交流プラズマを用いた独自技術の「熱避型」プラズマ表面改質装置
• 磁場を利用したプラズマ加熱抑制方式による熱ダメージレスな表面改質が可能
• 狭空間で均一なプラズマ生成による高速処理が可能（処理能力：60枚/h）
• 基板の両面同時処理が可能

• 抵抗加熱式金属ナノ粒子製造装置

• 活性液面連続真空蒸着法による金属ナノ粒子製造装置
• 多種類の金属ナノ粒子が製造可能
• シングルナノサイズの金属ナノ粒子の製造可能

• 大気中において非平衡プラズマを発生する装置

• 特殊な電源を用いることにより、多くの活性種を生成可能

• 表面改質など

• 濁度・蛍光を利用した遺伝子測定器

• 1台で濁度・蛍光を連続測定可

• 濁度・蛍光検出試薬の研究開発および使用

• 濁度を利用した遺伝子測定器

• PC接続不要で操作・結果確認可

• 濁度検出試薬の研究開発および使用